Технологические характеристики процесса ионно-химического травления монокристаллического кремния плазмой комбинированного (СВЧ и НЧ поля) разряда

Представлены результаты технологических испытаний разработанного и изготовленного разрядного устройства, предназначенного для плазменного травления материалов, используемых в технологии микроэлектроники. Особенностью организации процесса обработки является управляемое воздействие на поверхность материала химически активными частицами, создаваемыми в условиях комбинированного (СВЧ и НЧ поля) разряда.

Автор: Лушакова М.С.
Организация: Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники, Беларусь


9-я Международная молодёжная научно-техническая конференция «Современные проблемы радиотехники и телекоммуникаций РТ-2013»
22-26 апреля 2013